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出三氯氢硅合成炉的夹带有硅粉的汽气混合气依次进入一、二、三级旋风除尘器，气体中的大部分硅粉被分离下来，随即落入安装于下方的三个小集尘罐。定期把硅尘从小集尘罐中卸到集尘罐中。定期将罐中硅粉卸出，送去处理。

经“干法”除尘后的汽气混合气进入湿氢处理塔顶部，与同样从顶部注入的四氯化硅液体混合，自上而下流动。从塔下部送入用脱盐水增湿的氢气，与塔内的气液混合物接触，促使汽气混合气中所含的金属氯化物发生部分水解，同时，汽气混合气中的部分细小硅尘被液体四氯化硅洗下，混合气亦被四氯化硅冷却。

从湿氢处理塔下部出来，含固态杂质的汽气液混合物进入鼓泡蒸馏釜并被引至液下。气体鼓泡溢出，随后由下而上进入泡塔，与从塔顶流下的液体四氯化硅逆流接触，被进一步冷却并最终除去细小的硅尘和金属杂质。

出鼓泡塔，除去了固态杂质的冷却汽气混合气，压力为0.2～0.25MPa，温度为50～90℃，被送入汽气混合气分离系统（CDI-3）。在该系统内，汽气混合气中的氯硅烷被冷凝分离出来，送入三氯氢硅储槽（氯硅烷储槽），然后被送往三氯氢硅提纯工序粗精馏部分的一级精馏塔。同时，氢气和氯化氢气体也从CDI-3系统中分离出来，两种气体分别被送回氯化氢合成工序的氢气缓冲罐和氯化氢缓冲罐，循环用于氯化氢合成和三氯氢硅合成。

鼓泡塔底引出的含四氯化硅、三氯氢硅、聚氯硅烷、硅渣和其它杂质的液体，被泵送至三氯氢硅提纯工序粗精馏部分六级精馏塔。

贮存于四氯化硅储槽的四氯化硅，由泵送至湿氢处理塔和鼓泡塔顶，用作湿法除尘的洗涤液。

三氯氢硅提纯工序各精馏塔顶排放的含氯硅烷、氮气的废气，及含氯硅烷、氢气、氮气、氯化氢的多晶硅还原炉置换吹扫气和多晶硅还原炉事故排放气，被送进尾气洗涤塔，用10%石灰水洗涤，废气中的氯硅烷（以SiHCl3为例）和氯化氢与石灰水中的CaO发生以下反应而被除去：

SiHCl3+3H2O=H2SiO3+3HCl+H2

H2SiO3+CaO=CaSiO3+ H2O

2HCl+CaO=CaCl2+H2O

出塔底洗涤液用泵送入带搅拌的石灰浆液槽，随后用泵送回尾气洗涤塔顶循环使用。当槽内的石灰浆浓度下降至2%时，将含有CaCl2、CaSiO3和未反应CaO的部分液体抽出送往工艺废料处理工序处理，随即向槽内补充新鲜石灰浆。